首页 ＞ 产品介绍 > 各式镀膜材料 观看大图 MgF2 氟化镁，熔点1263℃，是一种低折射率的薄膜材料。化学特性稳定，也不溶於水，在红外光与可见光区也是透明的。 主要用於高阶镜片及高光学要求产品，例如滤光片和单眼相机镜片。 观看大图 Ta2O5 五氧化二钽，熔点接近1872℃，是一种高折射率的镀膜材料，化学稳定性好且抗激光损伤能力强。主要使用於光学滤镜的镀膜。 观看大图 Ti3O5 五氧化三钛，熔点接近1800°C，不溶於水，高折射率、电阻小、附著力强且不易喷溅。应用领域包含滤光片、冷光源涂层、增透膜、多层膜等。更进一步的资讯可参考相关下载，或者来电询问。 观看大图 TiO2 二氧化钛为白色固体或粉末状的两性氧化物，具有无毒、最佳不透明性、最佳白度和光亮度的特性，且附著力强，不易起化学变化。广泛运用於涂料、塑料、印刷油墨、化纤及化妆品等工业。 熔点极高，也被用来制造耐火玻璃及耐高温的实验器皿等。 观看大图 ZrO2 二氧化锆，具有高熔点(近2715 °C)、高电阻率、高折射率和低热膨胀系数的性质。经常使用於光学镜片、陶瓷颜料、静电涂料及烤漆...等领域。 观看大图 SiO 一氧化矽不溶於水，在空气中会氧化成二氧化矽，仅在高於1200℃才稳定。 观看大图 Al2O3 氧化铝，熔点接近2054℃，为一种白色固体，在矿业及材料科学上又被称为矾土。在氧化物中有著最高硬度，且有著极高的耐腐蚀性。主要用於LED人造蓝宝石晶体、高级陶瓷及一些高性能材料。 观看大图 SiO2 二氧化矽，熔点接近1710℃，为低折射率光学材料，是用於膜层设计上为最基本的材料。 二氧化矽在自然中的状态，最常见的是石英。因其优越的电绝缘性和工艺的可行性，用途极为广泛，主要用於制玻璃、陶器、耐火材料、电子工业的重要部件及水泥…等。它的化学性质稳定，是属於酸性的氧化物，不跟水及一般的酸作反应。 在光学产业中，它多使用於产生多层膜、防刮硬化膜及电介质膜...等。
