首頁 ﹥ 產品介紹 > 各式鍍膜材料 觀看大圖 MgF2 氟化鎂，熔點1263℃，是一種低折射率的薄膜材料。化學特性穩定，也不溶於水，在紅外光與可見光區也是透明的。 主要用於高階鏡片及高光學要求產品，例如濾光片和單眼相機鏡片。 觀看大圖 Ta2O5 五氧化二鉭，熔點接近1872℃，是一種高折射率的鍍膜材料，化學穩定性好且抗激光損傷能力強。主要使用於光學濾鏡的鍍膜。 觀看大圖 Ti3O5 五氧化三鈦，熔點接近1800°C，不溶於水，高折射率、電阻小、附著力強且不易噴濺。應用領域包含濾光片、冷光源塗層、增透膜、多層膜等。更進一步的資訊可參考相關下載，或者來電詢問。 觀看大圖 TiO2 二氧化鈦為白色固體或粉末狀的兩性氧化物，具有無毒、最佳不透明性、最佳白度和光亮度的特性，且附著力強，不易起化學變化。廣泛運用於塗料、塑料、印刷油墨、化纖及化妝品等工業。 熔點極高，也被用來製造耐火玻璃及耐高溫的實驗器皿等。 觀看大圖 ZrO2 二氧化鋯，具有高熔點(近2715 °C)、高電阻率、高折射率和低熱膨脹係數的性質。經常使用於光學鏡片、陶瓷顏料、靜電塗料及烤漆...等領域。 觀看大圖 SiO 一氧化矽不溶於水，在空氣中會氧化成二氧化矽，僅在高於1200℃才穩定。 觀看大圖 Al2O3 氧化鋁，熔點接近2054℃，為一種白色固體，在礦業及材料科學上又被稱為礬土。在氧化物中有著最高硬度，且有著極高的耐腐蝕性。主要用於LED人造藍寶石晶體、高級陶瓷及一些高性能材料。 觀看大圖 SiO2 二氧化矽，熔點接近1710℃，為低折射率光學材料，是用於膜層設計上為最基本的材料。 二氧化矽在自然中的狀態，最常見的是石英。因其優越的電絕緣性和工藝的可行性，用途極為廣泛，主要用於製玻璃、陶器、耐火材料、電子工業的重要部件及水泥…等。它的化學性質穩定，是屬於酸性的氧化物，不跟水及一般的酸作反應。 在光學產業中，它多使用於產生多層膜、防刮硬化膜及電介質膜...等。
